中国国际应用光学专题研讨会2009年9月6日-9月7日
      中国国际应用光学专题研讨会将由德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，带领德国最顶级的光学专家和企业研发人员出席，中方将由中国光学学会理事长周炳琨院士带队，带领有关科研院所及光学企业的研发精英出席，同场还将有来自日本及韩国的光学企业专家参与，这将是国际顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，它将为行业和光博会参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用，它将在发展方向和技术进步上给予光学企业重要启迪。
    主办单位：
    中国科学技术部高新技术发展与产业化司
    中国光学学会
    德国应用光学学会
    中国国际光电博览会（CIOE）
    承办单位：
    中国国际光电博览会（CIOE）
    支持单位：
    中国科学院光电研究院
    中国光学光电子行业协会
    深圳市科技和信息局
    海外支持单位：
    德国商务传媒集团
    俄罗斯光电协会
    协办单位：

    中国科学技术协会

    		 深圳市光学学会
    中国电子商会 深圳市光学光电子行业协会
    广东省光学学会 华南师范大学信息光电子科技学院
    台湾光电科技工业协进会 《中国光电》杂志
    香港光电协会 OFweek光电新闻网
    《中国国际应用光学专题研讨会》亮点
    本次研讨会的特点是理论与实际应用相结合，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。
    会议日程
    2009年9月6日上午
    会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲
    演讲主题：前沿光学设计理论与技术
    2009年9月6日下午
    演讲主题：光学与光电子材料及其应用
    2009年9月7日上午
    演讲主题：现代光学制造技术
    2009年9月7日下午
    演讲主题：现代光学测试技术与仪器
    演讲嘉宾

      曹健林
      戴国强
      倪国强
      刘容生
      牛憨笨
      王琳
      周炳琨
      相里斌
      刘颂豪
      沙定国
      霍志民
      江绍基
      叶声华
      汪河洲
    合作媒体