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离子束溅射沉积技术可以获得致密、附着力强并且光滑平整的高质量薄膜。 本设备主要由电气控制系统、真空系统、离子源、靶台、样品台、水冷系统及膜厚实时测量系统等构成，具有污染小，成膜条件易于精确控制，离子束能量和束流可以精确调节，操作方便、制备薄膜重复性好等特点。