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聚焦新型显示喷印制造关键共性技术，国创科光电亮相CIOE 2023
2023-08-03 09:14:14来源：CIOE中国光博会新闻标签：显示
武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·中国光谷智能制造产业园（新型显示产业基地）。公司面向国家高端装备发展战略与市场需求，聚焦新型显示喷印制造关键共性技术、核心装备，开发大面积、高精度、高效率 OLED、量子点、Micro LED等相关显示器件喷印制造成套创新工艺、技术与装备，以实现自主可控的新型显示制造关键装备的开发、市场化应用，致力于打造“新型显示高端装备国产化标杆企业”。
2023年9月6-8日，在第24届中国国际光电博览会上，武汉国创科光电装备有限公司将展出PR200、PRG4.5、EP200、ES600、PTG4.5等产品，诚挚邀请您莅临新型显示璀璨展2号馆2C158展位参观、交流及业务洽谈。
欢迎点击登记领取观众证件，现场莅临展台面对面高效交流。
·部分产品抢先看
PR200
产品介绍：
新型显示喷印RGB功能层装备NEJ-PR200型，是国创科为客户定制开发的装备，已在国家印刷及柔性显示创新中心通过工艺测试及器件制备与点亮验证。
技术参数
基板尺寸：200*200mm；
基板厚度：0.4~1.5mm；
运动精度：≤±3μm；
打印精度：≤±10μm；
墨滴体积：7-12pL(可选配不同型号喷头)；
墨滴体积控制：±5%；
缺陷检出率：≥99%；
箱内洁净度控制：ISO3；
辅助设备：VCD/UV/HPB可选配。
应用领域：
半导体加工/制造,半导体设备
PRG4.5
产品介绍：
NEJ-PRG4.5型喷印装备，是国创科与显示面板龙头企业联合开发的中尺寸面板功能层喷墨打印装备，面向面板产线量产需求，配置更丰富的喷头模组系统和更智能化的连续运行操作流程，对接产线上下游设备，提供成套智能工艺闭环控制系统。NEJ-PRG4.5型喷印装备的辅助设备可选配，主要由TM过渡舱、基板搬运机器人、VCD真空干燥成膜设备、 HPB固化设备和UV固化设备等组成。
基板尺寸：920*730mm；
运动精度：≤±3μm；
打印精度：≤±10μm。
应用领域：
半导体加工/制造,半导体设备
EP200
产品介绍：
NEJ-EP200型电流体喷印设备是国创料为电愤印工艺应用而研发的专业级电流体喷印设备。其具有亚微米级的运动精度，具有微曲面打印功能。适用于相关器件、微纳结构的制备。
基板尺寸：200X200mm；
定位精度：≤±3μm；
重复精度：≤±1μm；
曲面打印：激光传感器；
分辨率：1.5μm；
曲面高度:0- ±4mm;
打印墨滴：可达fL级;
打印频率：10000Hz;
X/Y轴打印速度：200mm/s;
视觉系统：亚微米级定位视觉+多倍观测相机。
应用领域：
半导体加工/制造,半导体设备
ES600
产品介绍：
NEJ-ES600型电流体喷雾制膜装备，通过高压电场引导高速射流尖端突破瑞利极限，多次炸裂产生fL级雾滴，可沉积≥50nm厚均匀致密薄膜，相比旋涂、刮涂2D制膜，制备3D及楼空结掏微纳级薄膜，是微电子、半导体 、能源电池、生物医药等专用装备之一。原创电流体喷雾工艺与自主专利技术。
适应材料粘度：≤500cps；
最小制造薄膜膜厚：50nm；
打印幅面：单次幅面0.1m；
集成多喷头：≥10个(可定制) ；
适用材料体系：光刻胶、钙钛矿、纳米材料。
应用领域：
光刻、显示、太阳能电池、燃料电池、薄膜封装
PTG4.5
产品介绍：
NEJ-PTG4.5型喷印装备，是国创科开发的中尺寸面板封装层喷墨打印装备，面向面板产线量产需求，配置更丰富的喷头模组系统和更智能化的连续运行操作流程，对接产线上下游设备，提供成套智能工艺闭环控制系统。NEJ-PTG4.5型喷印装备的辅助设备可选配，主要由TM过渡舱、基板搬运机器人、固化设备等组成。
基板尺寸：730*460mm；
运动精度：≤±3μm；
打印精度： ≤±10μm。
应用领域：
半导体加工/制造,半导体设备
