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HELIOS 系列磁控溅射设备拥有高速稳定的沉积速率，极高的工艺稳定性，高精度的超薄膜厚控制。可用于超过200层和20μm厚的滤光片，具有最优膜层氧化率，高密度，低损耗的特点。可加工的薄膜器件包括激光带通滤光片，截止滤光片，单腔/多腔滤光片，啁啾反射镜，偏光膜等，应用于消费电子，半导体，生命科学，医疗，计量，基础科研等领域。