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行业类别:精密光学展 & 镜头及摄像模组展
产品范围: 光学镀膜技术及设备/
HELIOS 系列磁控溅射设备拥有高速稳定的沉积速率,极高的工艺稳定性,高精度的超薄膜厚控制。可用于超过200层和20μm厚的滤光片,具有最优膜层氧化率,高密度,低损耗的特点。可加工的薄膜器件包括激光带通滤光片,截止滤光片,单腔/多腔滤光片,啁啾反射镜,偏光膜等,应用于消费电子,半导体,生命科学,医疗,计量,基础科研等领域。
展馆:3号馆
展展位号:3B51